Lacke und Master

Hier finden Sie detaillierte Informationen zu Verbrauchsmaterialien für die UV-Nanoimprintlithografie. Klicken Sie auf die jeweiligen Buttons, um direkt zum gewünschten Abschnitt zu gelangen.

Die Lacksysteme

Selbstverständlich erhalten Sie bei uns auch UV-NIL-Lacke. Die Lacke können auf eine Vielzahl von Substratmaterialien (Silicium, Gläser, Metalle und Keramiken) aufgebracht werden und eröffnen somit ein breites Feld von Anwendungen. Eine Strukturauflösung bis hin zu 10 nm ist möglich. Die Lackdicke kann sehr genau mittels Schleuderbelackung von 25 nm bis 1500 nm eingestellt werden. Für die Lacke eignen sich Stempel aus PDMS oder XPDMS.


NIL-UV-Solid: Niedrig-viskoser UV-NIL-Lack

  • Strukturtreue bis 10 nm
  • Geringe Restschichtdicke (residual layer thickness) bis 10 nm
  • Hohes Aspektverhältnis
  • Lackdicke mittels Aufschleudern zwischen 25 nm und 1500 nm einstellbar
  • Aushärten ohne Vakuum
  • Hohe Selektivität beim folgenden Ätzprozess
  • Geeignet für diese Stempelmaterialien: Silicium, Quarz, Nickel, NIL-Quick Stamp, PDMS und weitere Polymere
  • Geeignet für diese Substratmaterialien: Silicium, Quarz, Saphir, GaAs, InP, GaN, Ti, Au und weitere.

NIL-UV-Fast: Schnelles Aushärten

  • Niedrig-viskoser UV-NIL-Lack
  • Strukturtreue bis 10 nm
  • Schnelles Aushärten innerhalb von 5 Sekunden bei einer UV-Belichtung mit 350 W
  • Lackdicke mittels Aufschleudern zwischen 30 nm und 1400 nm einstellbar
  • Geringe Restschichtdicke (residual layer thickness) bis 10 nm
  • Hohes Aspektverhältnis
  • Hohe Selektivität beim folgenden Ätzprozess
  • Geeignet für diese Stempelmaterialien: Silicium, Quarz, NIL-Quick Stamp, PDMS und weitere Polymere
  • Geeignet für diese Substratmaterialien: Silicium, Quarz, Saphir, GaAs, InP, GaN, Ti, Au und weitere.

Master

Die für die Herstellung der weichen Stempel notwendigen Master können Sie ebenfalls über die 5microns GmbH beziehen. Wir bieten Ihnen entweder einen Standard-Masterstempel mit Gitterstrukturen oder zylindrischen Strukturen im Raster an, oder Sie kontaktieren uns einfach, und wir erstellen Ihnen ein Angebot für Ihren Master.

Lines and Spaces 300 nm, 400 nm, 500 nm und 600 nm
Schichtdicke auf Silicium-Substraten bis 300 nm
auf Quarz-Substraten bis 150 nm

Bezeichnung Periode Gitter Typ Fläche Schichtdicke Substrate
P350s 350 nm rechteckig Löcher 20 x 20 mm² Si < 300 nm / Quarz < 150 nm Silicium oder Quarz,
4″ Wafer oder kleiner
P520h 520 nm hexagonal Löcher 20 x 20 mm² Si < 450 nm
Quarz < 200 nm
P600h 600 nm hexagonal Löcher 46 x 46 mm²
P600h4 600 nm hexagonal Löcher 4 Zoll (-95%)
P780h 780 nm hexagonal Löcher 20 x 20 mm²
P1000h 1000 nm hexagonal Löcher 20 x 20 mm²
P1500h 1500 nm hexagonal Löcher 20 x 20 mm²
P600hp 600 nm hexagonal Säulen 46 x 46 mm²
P780hp 780 nm hexagonal Säulen 20 x 20 mm²
P1000hp 780 nm hexagonal Säulen 20 x 20 mm²
P1500hp 1500 nm hexagonal Säulen 20 x 20 mm²

  • Silicium- und Quarzsubstrate
  • runde Substrate bis 6 Zoll, rechteckige bis 5 Zoll
  • Strukturauflösung bis 20 nm
  • Antihaftbeschichtung
  • Zuschnitt

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